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膜厚及不均勻性

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設(shè)備:膜厚儀F50-XT/ F50-UV

廠商:FILMETRICS

用途:依靠F50的光譜測(cè)量系統(tǒng),可以很簡(jiǎn)單快速地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái),可以非??焖俚亩ㄎ凰铚y(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度。

技術(shù)指標(biāo):

l  最大適用4英寸晶圓測(cè)試,最大測(cè)試范圍0-10um

l  測(cè)量nk值最小厚度要求:50nm

l  波長(zhǎng)范圍:190-1100nm

l  準(zhǔn)確度:0.2%1nm

l  精度:0.02nm

l  穩(wěn)定性:0.05nm


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